蔵書情報
この資料の蔵書に関する統計情報です。現在の所蔵数 在庫数 予約数などを確認できます。
この資料に対する操作
電子書籍を読むを押すと 電子図書館に移動しこの資料の電子書籍を読むことができます。
資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
帯出区分 |
状態 |
所蔵棚番号 |
AJ区分
|
取込区分
|
在架
|
1 |
中央 | 書庫資料 | 1016957829 | 図書 | 549.9//2002 | | 在庫 | | 一般書(A) | |
○ |
関連資料
この資料に関連する資料を 同じ著者 出版年 分類 件名 受賞などの切り口でご紹介します。
書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000010322403 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
薄膜化技術 |
書名ヨミ |
ハクマクカ ギジュツ |
著者名 |
和佐 清孝/著
早川 茂/著
|
著者名ヨミ |
|
出版者 |
共立出版
|
出版年月 |
2002.6 |
ページ |
316p |
大きさ |
22cm |
ISBN |
4-320-08613-9 |
分類記号 |
549.8
|
著者紹介 |
横浜市立大学理学部客員教授。共著に「強誘電性と高温超伝導」他。 平成13年没。イオン工学センター相談役等をつとめた。共著に「薄膜技術の新潮流」他。 |
内容紹介 |
原子スケールでの材料技術を特徴としている薄膜は、ナノスケール素材・デバイス形成の要素技術であり、エレクトロニクスや環境技術分野で重要である。基礎科学的視点を追加し、最新のデータを増補した、92年刊に次ぐ第3版。 |
目次
内容細目
もどる