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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
帯出区分 |
状態 |
所蔵棚番号 |
AJ区分
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取込区分
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在架
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1 |
中央 | 書庫資料 | 1020286520 | 図書 | 549.9//2008 | | 在庫 | | 一般書(A) | |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000011691470 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
薄膜の基本技術 |
書名ヨミ |
ハクマク ノ キホン ギジュツ |
著者名 |
金原 粲/著
|
出版者 |
東京大学出版会
|
出版年月 |
2008.7 |
ページ |
12,227p |
大きさ |
21cm |
ISBN |
4-13-062840-2 |
分類記号 |
549.8
|
著者紹介 |
1933年静岡市生まれ。東京大学大学院数物系研究科修了。工学博士。東京大学名誉教授、同大学生産技術研究所共同研究員。著書に「スパタリング現象」など。 |
内容紹介 |
現代の最先端技術を支える材料である「薄膜」。真空装置の基本から、真空蒸着法、スパッタリング法、膜厚測定法、関連技術まで、薄膜技術に関する基本知識を系統的に解説する。 |
目次
内容細目
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