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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
配架場所 |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
帯出区分 |
状態 |
所蔵棚番号 |
AJ区分
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取込区分
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在架
|
1 |
中央 | 2F技術産業 | 1023283938 | 図書 | 501.4// | | 在庫 | R12B,R41 | 一般書(A) | |
○ |
関連資料
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1000012837058 |
書誌種別 |
図書 |
書名 |
触媒CVD<Cat‐CVD>の新展開 (エレクトロニクスシリーズ) |
書名ヨミ |
ショクバイ シーヴイディー キャット シーヴイディー ノ シンテンカイ |
副書名 |
ラジカルを用いる新プロセス技術 |
副書名ヨミ |
ラジカル オ モチイル シン プロセス ギジュツ |
叢書名 |
エレクトロニクスシリーズ
|
著者名 |
中山 弘/監修
|
出版者 |
シーエムシー出版
|
出版年月 |
2013.11 |
ページ |
5,276p |
大きさ |
26cm |
ISBN |
4-7813-0740-4 |
分類記号 |
501.4
|
内容紹介 |
表面科学、触媒化学、薄膜結晶成長、真空工学をベースに、Cat‐CVDの基礎から装置、材料、応用までを詳細に検討し、今後の実用化に向けた課題を示す。 |
目次
内容細目
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