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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
| No. |
所蔵館 |
配架場所 |
資料番号 |
資料種別 |
請求記号 |
帯出区分 |
状態 |
所蔵棚番号 |
AJ区分
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取込区分
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| 1 |
中央 | 2F技術産業 | 資料購入予 | 図書 | 549.7// | | 発注済 | | 一般書(A) | 未確定 |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
| タイトルコード |
1002000122638 |
| 書誌種別 |
図書 |
| 書名 |
EUV時代の半導体リソグラフィ技術 (現場の即戦力) |
| 書名ヨミ |
イーユーヴイ ジダイ ノ ハンドウタイ リソグラフィ ギジュツ |
| 叢書名 |
現場の即戦力
|
| 著者名 |
岡崎 信次/著
鈴木 章義/著
上野 巧/著
|
| 著者名ヨミ |
|
| 出版者 |
技術評論社
|
| 出版年月 |
2026.5 |
| ページ |
351p |
| 大きさ |
21cm |
| ISBN |
4-297-15462-2 |
| 分類記号 |
549.7
|
| 著者紹介 |
ALITECS(株)に入社。IEEE Life Fellow、SPIE Fellow、応用物理学会Fellow。 ASリソグラフィコンサルティングを主宰。 |
| 内容紹介 |
半導体集積回路の高集積化を牽引するリソグラフィ技術の基本と応用を詳述。超微細な構造を実現するナノインプリントリソグラフィ技術、光リソグラフィ技術の解像限界を突破するマルチパターニング技術などについて解説する。 |
目次
内容細目
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